Benutzerbeiträge von „217.92.170.97“
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6. April 2011
- 14:4714:47, 6. Apr. 2011 Unterschied Versionen +150 Diskussion:Metall-Oxid-Halbleiter-Feldeffekttransistor →dotiertes Polysilizium als Gate-Material seit 1980?
- 14:4514:45, 6. Apr. 2011 Unterschied Versionen +697 Diskussion:Metall-Oxid-Halbleiter-Feldeffekttransistor Neuer Abschnitt →dotiertes Polysilizium als Gate-Material seit 1980?