Benutzer:Cepheiden/Beiträge
Auswahl von Artikeln, an denen ich in größerem Umfang mitgewirkt habe (Änderungen)
[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]Technik
[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]Atomlagenabscheidung, Bipolartransistor, Chemisch-mechanisches Polieren, Dünnschichttechnik, Damascene-Prozess, Dual-Damascene-Prozess, Elektronenstrahllithografie, Equivalent oxide thickness, Epitaxialtransistor, Fingerprint (Spektroskopie), Foucault-Prisma, Formgedächtnislegierung, Fotolithografie (Halbleitertechnik), Gasphasenzersetzung, Glan-Thompson-Prisma, Grabenisolation, Gridistor, High-k+Metal-Gate-Technik, Immersionslithografie, Infrarot-Reflexions-Absorptions-Spektroskopie, Ionenplattieren, Ionenstrahllithografie, Kritische Abmessung, Lift-off-Verfahren, LOCOS-Prozess, Mehrfachstrukturierung, Mesatransistor, Metall-Oxid-Halbleiter-Feldeffekttransistor, Metall-Isolator-Halbleiter-Struktur, metallorganische chemische Gasphasenabscheidung, Mikroelektronik, Neutronenreflektometrie, Nicolsches Prisma, Optical proximity correction, Overlay (Halbleitertechnik), Prisma (Optik) (inkl. Dispersions-, Reflexions- und Polarisationsprisma), Röntgenlithografie, Scatterometrie, Schaltungstechnik, Schwarzes Silicium, Silizium-Gate-Technik, Sputtern, Thermische Oxidation von Silizium, Waferpinzette
Naturwissenschaften
[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]Anodische Oxidation, Bändermodell, Berreman-Effekt, Cauchy-Gleichung, Cotton-Mouton-Effekt, Dram (Einheit), elektrischer Widerstand, Delisle-Skala, Fresnel-Arago-Gesetze, fresnelscher Doppelspiegel, Gunn-Effekt, Imbert-Fedorov-Effekt, Halbleiter, meckesche Symbole, Müller-Matrix, Nitride, Pentacen, Silicium, Störstelle, Störstellenerschöpfung, Störstellenreserve, Voigt-Effekt
Personen
[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]Dwight W. Berreman, Julius Blank, Kurt Drescher, Victor Grinich, Jean Hoerni, Jay Last, Klaus Lunze, Eugene Kleiner, Sheldon Roberts, John Woollam
Vorlagen
[Bearbeiten | Quelltext bearbeiten]Der Spiegel, Gallica, Google Buch, Literatur, Patent, TabsCSS